内容简介
本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理,以及工业等离子体材料处理的原理,并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积,离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用,反映本领域的最新研究进展。全书共18章,内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体,以及气体放电的动理论等。本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员,以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。