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电镀添加剂理论与应用
作者
方景礼
著
出版社
国防工业出版社
出版时间
2006年4月 第1版
ISBN
9787118043693
定价
46.00
内容简介
《电镀添加剂理论与应用》由两大部分组成。第一部分阐述电镀添加剂的作用机理,包括添加剂的吸附及在阴极的还原,对镀层光亮的影响,对镀层整平作用的影响,对镀层物理力学性能的影响以及光亮电镀的理论。第二部分阐述电镀前处理及电镀各种金属所用添加剂的演变过程,各镀种所用添加剂的结构、性能与分类,以及各种金属的电镀工艺及其实用添加剂的配方。《电镀添加剂理论与应用》适用于所有从事电镀、化学镀的生产,教学和科研人员阅读。
作者简介
方景礼,福建省建瓯市人。1962年南京大学化学系毕业,1965年南京大学化学系研究生毕业。从师于中国化学会创始人、中国科学院院士戴安邦教授。为澳大利亚金属精饰学会(AIMF)、英国金属精饰学会(IMF)和美国电镀与表面精饰学会(AESF)会员。是《应用化学》、《表面技术》、《电镀与涂饰》、《中国腐蚀与防护学报》等杂志的编委。1995年~2002年应邀到新加坡高科技公司(GulTech)任首席工程师,新加坡柏士胜化学公司(Plaschem)任首席技术执行官(TEO)。2002年-2004年在中国台湾上村股份有限公司任高级技术顾问。在无氰电镀、化学镀、电镀添加剂、金属抛光、刷镀技术等方面卓有建树。曾在国内外刊物上发表论文180余篇,有数十篇被SCI引用。出版著作10部,代表性的有《多元络合物电镀》、《塑料电镀》、《刷镀技术》、《表面处理工艺手册》、《配位化学》等。
目录
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