书目

集成电路掩模设计:基础版图技术

  • 作者 [美]塞因特(Saint C.) 著;周润德、金申美 译
  • 出版社 清华大学出版社
  • 出版时间 2006年1月 第1版
  • ISBN 9787302108603
  • 定价 59.00

内容简介

《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)的译者曾在美国留学执教多年,后在清华大学微电子所任教,长期从事IC设计的研究和授课工作,作为国内IC设计领域的顶尖讲师,译笔流畅生动,既通俗易读,又保持原书风味,帮助您更加轻松愉快地掌握集成电路的掩模设计,激发您对于版图设计工作的热情!现在您可以轻轻松松,兴致盎然地学习和掌握集成电路版图设计了!《集成电路掩模设计:基础版图技术》(翻译版)作者ChristopherSaint,IBM的顶尖讲师之一,以轻松幽默的文笔为读者提供了一本图文并茂、实用易读的版图设计参考书,自下而上,由浅入深地构造了设计理念,毫无保留地讲述了从最初版图设计到最终仿真的方方面面。内容覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术,讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式,最后还提代了两个实际的例子,CMOS放大器与双极型混频器的版图设计。

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