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磁控溅射制备氮化铜薄膜的结构与性能

内容简介

磁控溅射是一种通用、成熟的薄膜制备工艺技术，其制备工艺可调剂参数较多，通过精细控制能够实现对薄膜结构的有效调控。本书研究了薄膜的工艺参数、薄膜结构与性能等之间的内在关系，探讨了薄膜的电子输运、光学带隙、热稳定性的有关物理量的变化机制。全书结构合理，条理清晰，内容丰富新颖，可供相关工程技术人员参考使用。

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