书目

真空镀膜原理与技术

内容简介

《真空镀膜原理与技术》阐述了真空镀膜的应用，真空镀膜过程中薄膜在基体表面生长过程；探讨了薄膜生长的影响因素；具体地介绍了真空镀膜的各种方法，包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。力求避开烦琐的数学公式，尽量用简单的语言阐述物理过程。通俗易懂、简单易学。《真空镀膜原理与技术》可作为高等学校相关专业的本科生教材，也可用作研究生教材或相关行业工程技术人员的参考书。

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