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核心技术解读:Photoshop CS2蒙版与通道
作者
本社
出版社
人民邮电出版社
出版时间
2007年3月 第1版
ISBN
9787115157010
定价
69.00
内容简介
本书全面讲解了与蒙版和通道有关的各项技术。全书共分为4篇11章,大体上可以分为两个部分,前面9章为理论部分,通过问答式的内容组织形式和大量实例,从蒙版与通道使用技巧、蒙版应用技术专题、抠图应用技术专题等3个方面进行讲述。书中第10章和第11章为案例部分,共讲解了10个精美的案例,力图将前面讲到的理论知识融会贯通。本书内容严谨,实例丰富,图文并茂,视觉效果精美。本书适合于那些对Photoshop有一定的了解,但对通道、蒙版等概念模糊,希望深入、系统地掌握有关知识和操作的读者。
目录
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