内容简介
《半导体制造技术导论(第2版)》共包括15章,第1章概述了半导体制造工艺;第2章介绍了基本的半导体工艺技术;第3章介绍了半导体器件、集成电路芯片,以及早期的制造工艺技术;第4章描述了晶体结构、单晶硅晶圆生长,以及硅外延技术;第5章讨论了半导体工艺中的加热过程;第6章详细介绍了光学光刻工艺;第7章讨论了半导体制造过程中使用的等离子体理论;第8章讨论了离子注入工艺;第9章详细介绍了刻蚀工艺;第10章介绍了基本的化学气相沉积(CVD)和电介质薄膜沉积工艺,以及多孔低k电介质沉积、气隙的应用、原子层沉积(ALD)工艺过程;第11章介绍了金属化工艺;第12章讨论了化学机械研磨(CMP)工艺;第13章介绍了工艺整合;第14章介绍了先进的CMOS、DRAM和NAND闪存工艺流程;第15章总结了本书和半导体工业未来的发展。