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Springer手册精选系列·晶体生长手册(第1册):晶体生长及缺陷形成概论(影印版)
作者
[美]
德哈纳拉
编[美]
德哈纳拉
编
出版社
哈尔滨工业大学出版社
出版时间
2013年1月 第1版
ISBN
9787560333861
定价
48.00
内容简介
《Springer手册精选系列·晶体生长手册(第1册):晶体生长及缺陷形成概论(影印版)》介绍基础理论:生长和表征技术综述,表面成核工艺,溶液生长晶体的形态,生长过程中成核的层错,缺陷形成的形态。
作者简介
GovindhanDhanarajistheManagerofCrystalGrowthTechnologiesatAdvancedRenewableEnergyCompany(ARCEnergy)atNashua,NewHampshire(USA)focusingonthegrowthoflargesizesapphirecrystalsforLEDlightingapplications,characterizationandrelatedcrystalgrowthfurnacedevelopment.HereceivedhisPhDfromtheIndianInstituteofScience,BangaloreandhisMasterofSciencefromAnnaUniversity(India).Immediatelyafterhisdoctoraldegree,Dr.DhanarajjoinedaNationalLaboratory,presentlyknownasRajaramannaCenterforAdvancedTechnologyinIndia,whereheestablishedanadvancedCrystalGrowthLaboratoryforthegrowthofopticalandlasercrystals.PriortojoiningARCEnergy,Dr.DhanarajservedasaResearchProfessorattheDepartmentofMaterialsScienceandEngineering,StonyBrookUniversity,NY,andalsoheldapositionofResearchAssistantProfessoratHamptonUniversity,VA.Duringhis25yearsoffocusedexpertiseincrystalgrowthresearch,hehasdevelopedoptical,laserandsemiconductorbulkcrystalsandSiCepitaxialfilmsusingsolution,flux,Czochralski,Bridgeman,gelandvapormethods,andcharacterizedthemusingx-raytopography,synchrotrontopography,chemicaletchingandopticalandatomicforcemicroscopictechniques.Heco-organizedasymposiumonIndustrialCrystalGrowthunderthe17thAmericanConferenceonCrystalGrowthandEpitaxyinconjunctionwiththe14thUSBiennialWorkshoponOrganometallicVaporPhaseEpitaxyheldatLakeGeneva,WIin2009.Dr.Dhanarajhasdeliveredinvitedlecturesandalsoservedassessionchairmaninmanycrystalgrowthandmaterialssciencemeetings.Hehaspublishedover100papersandhisresearcharticleshaveattractedover250richcitations.
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